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溫度傳感器的鉑薄膜制造方法

時(shí)間:2026-03-26    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 4 ) 次

【摘要】 本發(fā)明涉及一種鉑溫度傳感器的鉑薄膜制造方法,它采用高頻濺射或磁控濺射,以鉑為靶,在氬氧氣氛中向拋光陶瓷基片上濺射。濺射沉積的鉑膜在空氣中以1-5℃/分速度升溫或隨爐升溫,每隔50-100℃保溫1小時(shí),直至1000-1200℃保溫5-15小時(shí)。用本方法制備的鉑薄膜做成的溫度傳感器,其電阻溫度系數(shù)(TCR)達(dá)到(3.850±10)×10-3Ω/Ω℃。是一種適合工業(yè)生產(chǎn)的經(jīng)濟(jì)、實(shí)用方法。 【專利類型】發(fā)明授權(quán) 【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)院上海冶金研究所 【申請(qǐng)人類型】科研單位 【申請(qǐng)人地址】上海市長(zhǎng)寧區(qū)長(zhǎng)寧路865號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】上海市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】長(zhǎng)寧區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N88105605.7 【申請(qǐng)日】1988-11-16 【申請(qǐng)年份】1988 【公開公告號(hào)】CN1014280B 【公開公告日】1991-10-09 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號(hào)】CN1014280B 【授權(quán)公告日】1991-10-09 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號(hào)】H01C7/12; H01C7/00; C23C14/35; C23C14/40; G01K7/18; C23C14/36; G01K7/16; H01C17/075; H01C17/12 【發(fā)明人】武蘊(yùn)忠; 李生強(qiáng) 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種鉑溫度傳感器用的鉑薄膜制造方法,采用高頻濺射或 磁控濺射法、被濺射基片為拋光陶瓷、鉑靶純度為99.99%,濺射真 空度為10-2-10-3τ,其特征為: a、濺射氣氛為含5-30%休積的氧,其余為氬的氬氧混合氣休, b、濺射速率為500-1000■/分。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國(guó)科學(xué)院上海冶金研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市長(zhǎng)寧區(qū)長(zhǎng)寧路865號(hào) 【引證次數(shù)】4.0 【他引次數(shù)】4.0 【家族引證次數(shù)】4.0 【家族被引證次數(shù)】8.0

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