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陰極電弧源離子滲金屬技術(shù)及設(shè)備

時(shí)間:2026-03-26    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 6 ) 次

【摘要】 本發(fā)明是一種利用低氣壓弧光等離子體對(duì)金屬工件滲入特定元素,以?xún)?yōu)化工件表面性能的技術(shù)和設(shè)備。它采用陰極電弧蒸發(fā)器作為離子滲金屬時(shí)的蒸發(fā)源、離化源和加熱源,產(chǎn)生高密度的金屬離子流,同時(shí)對(duì)工件施加高負(fù)偏壓,以吸引金屬離子流加速到達(dá)工件,將工件加熱至高溫,離子滲入其表面。如可獲得鎢、鉬、鎳、鉻、鈦、鋁、鋯、鉭、鈮等金屬滲層以及它們與碳、氮、氧的化合物滲鍍層,提高滲金屬效率和質(zhì)量。 數(shù)據(jù)由馬 克 數(shù) 據(jù)整理 【專(zhuān)利類(lèi)型】發(fā)明授權(quán) 【申請(qǐng)人】北京聯(lián)合大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院機(jī)電技術(shù)開(kāi)發(fā)服務(wù)公司 【申請(qǐng)人類(lèi)型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】北京市朝陽(yáng)區(qū)白家莊西里 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】北京市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】朝陽(yáng)區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N88100549.5 【申請(qǐng)日】1988-02-11 【申請(qǐng)年份】1988 【公開(kāi)公告號(hào)】CN1015003B 【公開(kāi)公告日】1991-12-04 【公開(kāi)公告年份】1991 【授權(quán)公告號(hào)】CN1015003B 【授權(quán)公告日】1991-12-04 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類(lèi)號(hào)】C23C10/00; C23C14/32 【發(fā)明人】王福貞; 周友蘇; 劉文郁 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.在真空高溫狀態(tài)下對(duì)工件(10)進(jìn)行等離子 滲金屬的技術(shù),其特征在于:采用陰極電弧蒸發(fā)器 (14)作離子滲金屬時(shí)的蒸發(fā)源,離化源和加熱 源,利用低氣壓弧光放電產(chǎn)生高密度金屬離子流, 在工作時(shí)陰極電弧蒸發(fā)器(14)處于水冷卻狀 態(tài),它產(chǎn)生低氣壓場(chǎng)致發(fā)射型弧光放電,電壓范圍 是16~30V,放電電流范圍是50~200A,同時(shí)對(duì) 工件(10)提高負(fù)偏壓,使其工作負(fù)偏壓范圍在 500~2000V內(nèi),工作溫度范圍800~1400℃,提 高金屬離子到達(dá)工件(10)的能量,真空室的工 作氣壓范圍是0.00133322-13.3322帕斯卡,以此 對(duì)被處理工件(10)表面形成滲層。 【當(dāng)前權(quán)利人】北京聯(lián)合大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院機(jī)電技術(shù)開(kāi)發(fā)服務(wù)公司 【當(dāng)前專(zhuān)利權(quán)人地址】北京市朝陽(yáng)區(qū)白家莊西里 【引證次數(shù)】1.0 【被引證次數(shù)】1.0 【他引次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】1.0 【家族引證次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】6.0

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    【摘要】來(lái)自馬-克-數(shù)-據(jù)。本實(shí)用新型公開(kāi)了一種易損大果型水果或物件 用內(nèi)包裝。它為有底或無(wú)底袋形。由柔性材料制 成。其特征在于是網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),網(wǎng)壁(網(wǎng)線(xiàn))厚度至少不 低于0.2厘米,與現(xiàn)有技術(shù)相比具有方便美觀,不占 空間、質(zhì)輕價(jià)廉、碰損或擦損

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