【摘要】一種跨限X射線吸收濃度分析儀，包括可提供兩種以上單能X射線的放射源—?jiǎng)影袡C(jī)構(gòu)、樣品容器、由閃爍晶體構(gòu)成的探頭、單道分析器和微機(jī)。該儀器結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便、造價(jià)低廉、維護(hù)量小，特別適用于多組分稀土元素體系的在線測(cè)量。這種濃度分析儀還具
【摘要】 本發(fā)明涉及一種真空光電成象器件。它提供一種采用直接轉(zhuǎn)換方式工作的近貼聚焦轉(zhuǎn)換圖象的X射線象增強(qiáng)器它由X射線光電陰極，與光電陰極近貼聚焦的微通道板和與微通道板近貼聚焦的輸出熒光屏等組成，應(yīng)用于X射線成象裝置，其分辨率高，人眼可直接目視，功耗小，安全，可廣泛應(yīng)用于透視診斷、無損探傷、結(jié)構(gòu)透視和保安透視檢查等。。更多數(shù)據(jù)：搜索馬克數(shù)據(jù)網(wǎng)來源：www.macrodatas.cn 【專利類型】發(fā)明授權(quán) 【申請(qǐng)人】廈門大學(xué); 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械研究所 【申請(qǐng)人類型】科研單位,學(xué)校 【申請(qǐng)人地址】361005福建省廈門市思明南路422號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國 【申請(qǐng)人城市】廈門市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】思明區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N88102912.2 【申請(qǐng)日】1988-05-13 【申請(qǐng)年份】1988 【公開公告號(hào)】CN1014478B 【公開公告日】1991-10-23 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號(hào)】CN1014478B 【授權(quán)公告日】1991-10-23 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號(hào)】H01J31/50; H01J1/34; G01J1/00; G01J1/58; H01J1/02; H01J31/08 【發(fā)明人】楊曉文; 佘永正; 吳存亞 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種真空型X射線象增強(qiáng)器，設(shè)有光電陰極，起電子倍 增作用的微通道板和輸出熒光屏，光電陰極由陰極基底和陰極發(fā) 射體層組成，陰極基底采用輕金屬箔(例如鋁箔)，發(fā)射體層采 用堿金屬鹵化物，微通道板與輸出熒光屏之間近貼聚焦，本發(fā)明 其特征在于光電陰極為發(fā)射體層采用密實(shí)層加疏松層變密度結(jié)構(gòu) 的X射線光電陰極，即在陰極表面有一厚度為1～2μm，密度為 50～100％，即2～4g/cm3的密實(shí)層作為襯底層，從密實(shí) 層面至發(fā)射表面是密度呈減小變化，疏松層的厚度為100～ 300μm，起始處的密度為30～50％，發(fā)射表面密度為2～ 5％，光電陰極與微通道板近貼聚焦。 【當(dāng)前權(quán)利人】上海華科電子顯像有限公司 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】12100000B36952193C 【引證次數(shù)】2.0 【被引證次數(shù)】4.0 【他引次數(shù)】2.0 【被他引次數(shù)】4.0 【家族引證次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】12.0
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