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矩陣顯示器條狀電極制備

時(shí)間:2026-03-26    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 1 ) 次

【摘要】 本發(fā)明屬于電子顯示技術(shù)領(lǐng)域,是一種矩陣顯示 器條狀電極制備工藝。本發(fā)明使用微機(jī)控制繪圖儀, 以刻刀刻劃掩膜膠層代替?zhèn)鹘y(tǒng)光刻工藝。掩膜層可 分別由漆類、瀝青、石蠟配制而成,同時(shí)配制一種新的 ITD或SnO2電極腐蝕液對電極進(jìn)行腐蝕,完成了條 狀電極制備。本發(fā)明適用于電致發(fā)光,液晶和等離子 體矩陣顯示器中ITD,SnO2條狀電極的制備,也適 用于其它種類(如印刷電路板)條狀電極的制備。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學(xué)院長春物理研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】吉林省長春市延安大路1號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】長春市 【申請人區(qū)縣】朝陽區(qū) 【申請?zhí)枴緾N89106585.7 【申請日】1989-08-16 【申請年份】1989 【公開公告號】CN1048645A 【公開公告日】1991-01-16 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN1018325B 【授權(quán)公告日】1992-09-16 【授權(quán)公告年份】1992.0 【IPC分類號】H05K3/06; G09G3/34 【發(fā)明人】周連祥; 張奇; 金弼 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種矩陣顯示器條狀電極制備工藝,現(xiàn)有技術(shù)包括繪圖、制板、甩膠、暴光、堅(jiān)膜、顯影等光刻工藝及烘板、修板、腐蝕、去膜等,本發(fā)明的特征在于用微機(jī)控制繪圖儀,以刻刀刻劃ITD或SnO2的掩膜膠層代替?zhèn)鹘y(tǒng)光刻工藝,用新的掩膜物質(zhì)代替?zhèn)鹘y(tǒng)工藝的掩膜物質(zhì),在腐蝕液中加入一種緩蝕劑。 本發(fā)明的工藝過程包括1配制掩膜膠;2腐蝕液的配制;3涂掩膜膠層;4刻線;5腐蝕;6去膜。 所述的掩膜物質(zhì)為瀝青;各種漆類;天然樹脂;石臘等。 所述的緩蝕劑為丙三醇;乙二醇;聚乙烯醇等;緩蝕劑在腐蝕劑中的量為:濃鹽酸∶水∶緩蝕劑體積比為1∶1∶2-4。 (來自 馬克數(shù)據(jù)網(wǎng)) 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院長春物理研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】吉林省長春市延安大路1號 【被引證次數(shù)】12.0 【被他引次數(shù)】12.0 【家族被引證次數(shù)】13.0

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