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加弧輝光離子滲金屬技術(shù)及設(shè)備

時(shí)間:2026-03-29    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 2 ) 次

【摘要】 本發(fā)明屬于表面冶金范疇。它是利用稀薄氣體 中的輝光放電及濺射現(xiàn)象,在工件周圍設(shè)置輔助源 極;同時(shí)利用真空電弧放電現(xiàn)象,在容器壁上設(shè)置一 個(gè)或多個(gè)陰極電弧靶,作為主金屬源。在對(duì)工件施加 負(fù)偏壓作用下,工件升至高溫,依靠欲滲金屬離子的 轟擊與擴(kuò)散,使工件表面獲得具有特殊物理、化學(xué)、機(jī) 械性能的純金屬層、合金層、合金鍍層及化合物滲、鍍 層。達(dá)到提高滲金屬速度及質(zhì)量,優(yōu)化工件表面性能 的目的。 馬 克 數(shù) 據(jù) 網(wǎng) 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】太原工業(yè)大學(xué) 【申請(qǐng)人類型】學(xué)校 【申請(qǐng)人地址】山西省太原市迎澤西大街11號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】太原市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】迎澤區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N90103841.5 【申請(qǐng)日】1990-06-01 【申請(qǐng)年份】1990 【公開公告號(hào)】CN1057073A 【公開公告日】1991-12-18 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號(hào)】CN1028546C 【授權(quán)公告日】1995-05-24 【授權(quán)公告年份】1995.0 【IPC分類號(hào)】C23C14/38; C23C14/36 【發(fā)明人】潘俊德; 范本惠; 徐重; 李成明; 韓晉宏; 鄭維能 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、本發(fā)明是在一個(gè)可以抽成真空并能充入氣體介質(zhì)的密封容器內(nèi),設(shè)置可以轉(zhuǎn)動(dòng)的陰極,工件置于陰極基板上,在工件周圍設(shè)置一個(gè)用欲滲元素金屬制成的輔助源極。在作為共用陽極的爐罩和輔助源極間以及爐罩和陰極間分別連接一個(gè)連續(xù)可調(diào)的直流電源(0-2000V)。在爐罩上不同方位設(shè)置一個(gè)或多個(gè)金屬陰極電弧源,并設(shè)有引弧裝置,在共用陽極(爐罩)和陰極電弧源之間,連接一個(gè)可調(diào)低電壓直流電源(0-100V,0-200A)。通過本技術(shù)和設(shè)備利用輝光放電與弧光放電的離子濺射作用,使金屬材料及另件表面形成和基體性能不同的,具有特殊物理、化學(xué)、機(jī)械性能的純金屬層、合金層和滲鍍結(jié)合層以及化合物滲鍍層。 【當(dāng)前權(quán)利人】太原工業(yè)大學(xué) 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】山西省太原市迎澤西大街11號(hào) 【被引證次數(shù)】17.0 【被他引次數(shù)】17.0 【家族被引證次數(shù)】17.0

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