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制備半導(dǎo)體單晶用的雙層坩堝

時(shí)間:2026-04-03    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 2 ) 次

【摘要】 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體生長(zhǎng)用的雙層坩堝,它由 內(nèi)、外坩堝組成,內(nèi)坩堝環(huán)狀壁為倒置的截圓錐筒狀、 截棱錐筒狀其中的一種,內(nèi)坩堝上口直徑(指拉晶尚 未進(jìn)行時(shí)液面處的內(nèi)坩堝直徑)為外坩堝直徑的倍。其下口直徑為外坩堝直徑的 倍,在 內(nèi)坩堝的接近雙層坩堝底處的環(huán)狀壁上至少有一個(gè) 小孔,優(yōu)點(diǎn)是能拉制出摻雜劑軸向分布均勻的的半導(dǎo) 體晶體,且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,易于制造,成本低,對(duì)半導(dǎo)體原 料形狀無(wú)特殊要求,便于拉晶時(shí)觀察和操作。 【專利類型】實(shí)用新型 【申請(qǐng)人】北京有色金屬研究總院 【申請(qǐng)人類型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】100088北京市新街口外大街2號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】北京市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】西城區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N91204133.1 【申請(qǐng)日】1991-03-21 【申請(qǐng)年份】1991 【公開(kāi)公告號(hào)】CN2087322U 【公開(kāi)公告日】1991-10-23 【公開(kāi)公告年份】1991 【授權(quán)公告號(hào)】CN2087322U 【授權(quán)公告日】1991-10-23 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號(hào)】F27B14/10; F27B14/00 【發(fā)明人】王體虎; 秦福; 李英春 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種用于制備半導(dǎo)體單晶用的雙層坩堝,由內(nèi)坩堝和外坩堝所組成,內(nèi)坩堝安放在外坩堝內(nèi),外坩堝的環(huán)狀壁為直筒狀,本實(shí)用新型的特征是,內(nèi)坩堝的環(huán)狀壁為上口大,下口小的倒置的截圓錐筒狀、倒置的截棱錐筒狀其中的一種,內(nèi)坩堝上口直徑(指拉晶尚未開(kāi)始時(shí)的液面處內(nèi)坩堝的直徑)為外坩堝直徑的B· 倍(K為摻雜劑分配系數(shù)),內(nèi)坩堝下口直徑為外坩堝直徑的B· 倍,其中A=1.1-1/ ,B=0.80~1.0,在內(nèi)坩堝環(huán)狀壁上接近雙層坩堝的底處至少有一個(gè)小孔。 【當(dāng)前權(quán)利人】北京有色金屬研究總院 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市新街口外大街2號(hào) 【引證次數(shù)】3.0 【被引證次數(shù)】4.0 【他引次數(shù)】3.0 【被他引次數(shù)】4.0 【家族引證次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】4.0

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