【摘要】一種應用自由空間耦合技術調(diào)制光的方法及調(diào) 制器，調(diào)制器的下層金屬膜、有機聚合物薄膜和上層金屬膜依 次鍍在襯底的上表面，上下層金屬膜和有機聚合物薄膜構成雙 面金屬包覆波導結構，上層金屬膜和有機聚合物薄膜構成了衰 減全反射結構。方法如下
【摘要】 1.本外觀設計是紡織物圖案，省略后視圖； 2.本產(chǎn)品為單元圖案四方連續(xù)無限定邊界的平面產(chǎn)品。 3.請求保護的外觀設計包含色彩。 【專利類型】外觀設計 【申請人】上海題橋紡織染紗有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】201114上海市閔行區(qū)浦江鎮(zhèn)立躍路519號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630318863.X 【申請日】2006-12-31 【申請年份】2006 【公開公告號】CN300723383D 【公開公告日】2007-12-26 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN300723383D 【授權公告日】2007-12-26 【授權公告年份】2007.0 【發(fā)明人】董勤霞; 潘玉明; 彭繼芝 【主權項內(nèi)容】無 【當前權利人】上海題橋紡織染紗有限公司 【當前專利權人地址】上海市閔行區(qū)浦江鎮(zhèn)立躍路519號 【專利權人類型】有限責任公司(自然人投資或控股) 【統(tǒng)一社會信用代碼】913101126320066543
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