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制作541納米窄帶通光電探測器的方法

時間:2026-04-12    作者:admin 點擊: ( 0 ) 次

【摘要】 本發(fā)明公開了一種制作541納米窄帶通光電探測 器的方法,包括以下步驟:將N型硅片外延片襯底送入氧化爐 生長氧化層;注入硼離子;將硅片送入LPCVD爐中生長 Si3N4層;光刻P區(qū)引線孔和壓焊點窗口;蒸鋁;鋁反刻;合金; 背面減薄蒸金;合金;劃片;制作帶ITO薄膜541納米峰值波 長窄帶通濾光片:將帶導電ITO薄膜濾光片與金屬管帽歐姆接 觸、封裝。按照本發(fā)明的方法制得的541納米窄帶通光電探測 器具有光譜選擇性優(yōu)良、光電轉(zhuǎn)換率高、暗電流極低、抗干擾 能力強、環(huán)境適應性好的優(yōu)點,而且工藝簡單、材料容易獲得, 可以利用現(xiàn)有設備和技術(shù)批量化生產(chǎn),完全能滿足第五版人民 幣防偽檢測推廣使用的需要。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】郭輝; 江建國 【申請人類型】個人 【申請人地址】102208北京市昌平區(qū)回龍觀流星花園2區(qū)5棟7門202室 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】昌平區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610032374.7 【申請日】2006-10-09 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1933193A 【公開公告日】2007-03-21 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100477296C 【授權(quán)公告日】2009-04-08 【授權(quán)公告年份】2009.0 【發(fā)明人】郭輝; 江建國 【主權(quán)項內(nèi)容】 1、一種制作541納米窄帶通光電探測器的方法,包括 第一步、制作硅光電二極管芯片步驟: (1)將N型硅片外延片襯底送入氧化爐生長氧化層; (2)光刻P區(qū)窗口,注入硼離子,退火; (3)將硅片送入LPCVD爐中生長Si3N4層; (4)光刻P區(qū)引線孔和壓焊點窗口; (5)蒸鋁; (6)鋁反刻; (7)合金; (10)背面減薄蒸金; (11)合金; (12)劃片; 第二步、制作帶ITO薄膜541納米峰值波長窄帶通濾光片步驟: (1)將光學玻璃裁成圓片,進行拋光、滾圓、清洗、烘干后用夾具夾好; (2)將夾具放置在工件中,在真空鍍膜機中對圓片鍍制541納米波長窄 帶通光學膜系后,緊接著鍍制導電ITO膜; 第三步、帶導電ITO薄膜濾光片與金屬管帽歐姆接觸制作步驟: (1)將低溫銀漿涂在頂部開口的金屬管帽頂部邊框內(nèi)側(cè); (2)將濾光片放入金屬管帽頂部邊框中輕壓,放入時應將帶ITO薄膜面 與金屬管帽頂部邊框接觸; (3)送入恒溫箱中加熱,使帶導電ITO薄膜濾光片與金屬管座實現(xiàn)良好 固化接觸; 第四步、封裝步驟: (1)在與金屬管帽配套的金屬管座上涂低溫銀漿,安放硅光電二極管管 芯,置于恒溫箱中恒溫加熱,使硅光電二極管芯燒結(jié)在金屬管座上; (2)將金絲壓焊在管芯引線窗口的金屬層和金屬管座引線柱上; (3)在金屬管帽內(nèi)放置一橡膠圈; (4)用封帽機將金屬管帽與管座進行封裝。 【當前權(quán)利人】北京郵電大學 【當前專利權(quán)人地址】北京市海淀區(qū)西土城路10號 【被引證次數(shù)】8 【被他引次數(shù)】8.0 【家族被引證次數(shù)】8

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