【摘要】本實用新型是一種改進的等離子真空鍍膜裝置,涉及等離子真空鍍膜設備。其特征是鍍膜罐設為水平臥置,沿鍍膜罐體外表面縱向兩側對稱的各設有一組外凸源座和離子發(fā)射源,兩側外凸源座均設于鍍膜罐體軸心水平面之上;離子發(fā)射源固置于外凸源座,每組離子
【摘要】 右視圖與左視圖對稱,省略右視圖。 【專利類型】外觀設計 【申請人】陳曉維 【申請人類型】個人 【申請人地址】102208北京市昌平區(qū)東小口鎮(zhèn)馬連店村百強家具 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】昌平區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630151758.1 【申請日】2006-05-16 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3635764D 【公開公告日】2007-04-25 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3635764D 【授權公告日】2007-04-25 【授權公告年份】2007.0 【發(fā)明人】陳曉維 【主權項內容】無 【當前權利人】陳曉維 【當前專利權人地址】北京市昌平區(qū)東小口鎮(zhèn)馬連店村百強家具
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