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高TC超導(dǎo)薄膜材料低溫合成方法

時(shí)間:2026-03-26    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 4 ) 次

【摘要】 本發(fā)明涉及超導(dǎo)薄膜材料的制造方法。本發(fā)明用金屬有機(jī)化學(xué)氣相淀積法(MOCVD)。以揮發(fā)性金屬有機(jī)化合物為源,采用射頻或微波等離子體為激發(fā)源,形成金屬有機(jī)化學(xué)氣相淀積(MOCVD)過程。在低于400℃溫度下,于襯底材料表面形成高TC超導(dǎo)氧化物薄膜材料。本發(fā)明方法可以在低溫下直接合成高TC超導(dǎo)薄膜,不須經(jīng)高溫?zé)崽幚?。用本發(fā)明方法制造高TC超導(dǎo)薄膜材料,易于精確控制,淀積速率快,襯底材料廣泛。制成的薄膜光亮平整,與襯底附著牢固而無明顯的相互作用。 數(shù)據(jù)由馬 克 團(tuán) 隊(duì)整理 【專利類型】發(fā)明授權(quán) 【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) 【申請(qǐng)人類型】學(xué)校 【申請(qǐng)人地址】安徽省合肥市金寨路96號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】合肥市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】蜀山區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N88100403.0 【申請(qǐng)日】1988-01-20 【申請(qǐng)年份】1988 【公開公告號(hào)】CN1013813B 【公開公告日】1991-09-04 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號(hào)】CN1013813B 【授權(quán)公告日】1991-09-04 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號(hào)】H01B12/06; H01L39/12; H01L39/24 【發(fā)明人】孟廣耀; 彭定坤; 方起; 曹傳寶 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種高Tc超導(dǎo)薄膜材料低溫合成方法,其特征在于該方法是用金屬有機(jī)化 學(xué)氣相淀積法(MOCVD),以揮發(fā)性金屬有機(jī)化合物為源,惰性氣體和氧氣的混 合物為載氣和反應(yīng)介質(zhì),采用射頻或微波等離子體為激發(fā)源,形成低溫等離子 體輔助的金屬有機(jī)化學(xué)氣相淀積(MOCVD)過程,在低于400℃溫度下,于襯底 材料表面形成高Tc超導(dǎo)氧化物薄膜材料。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】安徽省合肥市金寨路96號(hào) 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】12100000485001086E 【被引證次數(shù)】3.0 【被自引次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】5.0

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