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硅器件芯片背面銀系濺射金屬化

時(shí)間:2026-03-26    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 2 ) 次

【摘要】 本發(fā)明采用先進(jìn)的磁控濺射技術(shù),以成本較低的 金屬銀作為硅器件背面金屬化層主要材料,采用先進(jìn) 的快速熱退火工藝,成功地解決了硅器件背面金屬化 結(jié)構(gòu)的可靠性問題。濺射方法制備的背面金屬化結(jié) 構(gòu),層間熱應(yīng)力匹配好,歐姆接觸性能優(yōu)良,具有良好 的浸錫沾潤(rùn)性能和很強(qiáng)的附著能力。實(shí)驗(yàn)表明,本方 法顯著地改善了晶體管的電學(xué)性能,熱疲勞試驗(yàn)達(dá)3 萬(wàn)次,達(dá)到高可靠質(zhì)量要求。濺射銀系工藝成本低, 便于推廣。 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】北京大學(xué) 【申請(qǐng)人類型】學(xué)校 【申請(qǐng)人地址】北京市海淀區(qū)中關(guān)村北京大學(xué) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】北京市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N89109303.6 【申請(qǐng)日】1989-12-18 【申請(qǐng)年份】1989 【公開公告號(hào)】CN1052750A 【公開公告日】1991-07-03 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號(hào)】CN1017950B 【授權(quán)公告日】1992-08-19 【授權(quán)公告年份】1992.0 【IPC分類號(hào)】H01L21/28; H01L21/283; H01L23/485; H01L21/02; H01L23/48 【發(fā)明人】張利春; 趙忠禮; 高玉芝; 寧寶俊; 王陽(yáng)元 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種硅器件芯片背面金屬化方法,其特征在于工藝過程包括: (1)將以下金屬依次分層濺射到硅器件背面; ①鈦、鎳、銀, ②鉻、銀銅合金,或者 ③鉻、鎳、銀; (2)將濺射后的硅器件進(jìn)行用以消除濺射所造成的表面損傷,增加各金屬層之間的滲透及表面層的錫浸潤(rùn)性能的快速熱退火處理,熱退火溫度為400℃-500℃,退火時(shí)間為10秒-20秒。 (macrodatas.cn) (來(lái) 自 馬 克 數(shù) 據(jù) 網(wǎng)) 【當(dāng)前權(quán)利人】北京大學(xué) 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市海淀區(qū)中關(guān)村 【專利權(quán)人類型】公立 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】12100000400002259P 【被引證次數(shù)】4.0 【被他引次數(shù)】4.0 【家族被引證次數(shù)】4.0

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