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低溫光化學(xué)氣相淀積二氧化硅、氮化硅薄膜技術(shù)

時(shí)間:2026-04-02    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 2 ) 次

【摘要】 本發(fā)明涉及一種光化學(xué)氣相淀積(光CVD)技 術(shù)。該技術(shù)采用紫外光汞敏化原理分解反應(yīng)氣體,在 低于200℃條件下,通過硅烷(SiH4)-笑氣(N2O)及硅 烷(SiH4)-氨氣(NH3)混合氣體的光化學(xué)反應(yīng)分別淀 積SiO2、SiN薄膜。與國外同類技術(shù)相比,具有薄膜 全面特性好,特別是薄膜介電強(qiáng)度高,應(yīng)力小,腐蝕速 率低,淀積面積大,淀積均勻性好和光量子效率高等 優(yōu)點(diǎn)。用本發(fā)明在低溫條件下淀積的SiO2、SiN介質(zhì) 膜可對半導(dǎo)體器件進(jìn)行表面鈍化,介質(zhì)隔離和擴(kuò)散掩 蔽。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】西安電子科技大學(xué) 【申請人類型】學(xué)校 【申請人地址】710071陜西省西安市太白路2號(hào) 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】西安市 【申請人區(qū)縣】碑林區(qū) 【申請?zhí)枴緾N90101490.7 【申請日】1990-03-17 【申請年份】1990 【公開公告號(hào)】CN1055014A 【公開公告日】1991-10-02 【公開公告年份】1991 【IPC分類號(hào)】C23C16/34; C23C16/40; C23C16/42 【發(fā)明人】孫建成 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種低溫光化學(xué)氣相淀積二氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiN)薄膜的技術(shù),是采用紫外光汞敏化原理分解反應(yīng)氣體,在低溫條件下通過混合氣體的光化學(xué)反應(yīng)分別淀積二氧化硅(SiO2)及氮化硅(SiN)薄膜,其特征在于: a.淀積SiO2,SiN薄膜的工藝條件分別為: SiO2:淀積溫度:100-200℃ 淀積壓力:40-60 Pa 氣體流量:SiH4(高純,濃度5%,充氮)500ml/min, N2O(高純)750ml/min SiN:淀積溫度:150-200℃ 淀積壓力:40-50Pa 氣體流量:SiH4(高純,濃度5%,充氮)500ml/min NH3(電子純)780ml/min b.淀積SiO2及SiN薄膜的工藝過程是: 先將半導(dǎo)體芯片放在樣品臺(tái)上,再關(guān)閉反應(yīng)室,抽真空至0.1Pa,同時(shí)加熱襯底到所需設(shè)定溫度,然后接通低壓汞燈進(jìn)行光照,最后向反應(yīng)室放入高純氮?dú)猓c大氣壓平衡后打開反應(yīng)室取片,測量淀積薄膜的主要特性。 【當(dāng)前權(quán)利人】西安電子科技大學(xué) 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】陜西省西安市太白路2號(hào) 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】121000004352307294 【被引證次數(shù)】17.0 【被他引次數(shù)】17.0 【家族被引證次數(shù)】17.0

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