【摘要】本實(shí)用新型屬于汽輪發(fā)電機(jī)氫氣控制系統(tǒng)使用 的閥門。即一種隔膜截止閥。目前的隔膜閥多為閘 板式，其閥座的球弧面不易加工，隔膜易損壞，泄漏嚴(yán) 重，本技術(shù)對(duì)此進(jìn)行改進(jìn)克服了上述不足，主要特征 是將閥芯設(shè)計(jì)為平面密封結(jié)構(gòu)，同時(shí)閥體進(jìn)氣通道的
【摘要】 本發(fā)明是一種制備高蒸汽壓組分的III-V族半導(dǎo)體化合物薄膜的射頻濺射方法。為使濺射膜有較好化學(xué)計(jì)量比，本發(fā)明采用合成III-V族化合物塊錠或碎料和相應(yīng)的高蒸汽壓五族元素材料一起作為濺射靶并置于濺射室下方。本發(fā)明方法可在不同的襯底溫度下，得到單晶，多晶或非晶的III-V族半導(dǎo)體化合物薄膜。 【專利類型】發(fā)明授權(quán) 【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)院上海冶金研究所 【申請(qǐng)人類型】科研單位 【申請(qǐng)人地址】上海市長(zhǎng)寧路865號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】上海市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】長(zhǎng)寧區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N85100504.7 【申請(qǐng)日】1985-04-01 【申請(qǐng)年份】1985 【公開(kāi)公告號(hào)】CN1012741B 【公開(kāi)公告日】1991-06-05 【公開(kāi)公告年份】1991 【授權(quán)公告號(hào)】CN1012741B 【授權(quán)公告日】1991-06-05 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號(hào)】C23C14/34; H01L21/203; H01L21/02 【發(fā)明人】黎錫強(qiáng) 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種制備有高蒸氣壓組分的InP半導(dǎo)體薄膜的射頻濺射方法， 其特征在于用InP塊錠或碎料和少量紅磷一起作為濺射靶置于濺射 室下方，襯底置于濺射室上方，在1-5×10-2乇氬氣壓強(qiáng)及230 -350℃襯底溫度下進(jìn)行濺射沉積。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國(guó)科學(xué)院上海冶金研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市長(zhǎng)寧路865號(hào)
未經(jīng)允許不得轉(zhuǎn)載：http://www.duba2008.cn/1775379489.html
喜歡就贊一下
