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光刻投影物鏡遠(yuǎn)心測量方法

時(shí)間:2026-04-05    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 2 ) 次

【摘要】 本發(fā)明涉及一種光刻投影物鏡遠(yuǎn)心測量方法,利用一可起到孔徑光闌作用的專用遠(yuǎn)心掩模,并在該遠(yuǎn)心掩模上設(shè)置至少一個(gè)用以測量視場內(nèi)遠(yuǎn)心的通光孔,通過在不同的成像位置測量物體的像來確定通過該點(diǎn)的主光線,從而計(jì)算獲得遠(yuǎn)心;測量方法包括:傳感器掃描測量法、曝光測量法。其計(jì)算方法是,利用可代表一個(gè)通光孔在x或y方向的兩條邊的50%最大光強(qiáng)位置,計(jì)算這兩個(gè)位置的中心點(diǎn)坐標(biāo),根據(jù)測量高度,利用線性直線方程,線性擬合出一條經(jīng)過通光孔中心點(diǎn)的光線軌跡,該光線軌跡與光軸的夾角即為遠(yuǎn)心度。利用本發(fā)明的測量方法可快速地測量出光刻機(jī)投影物鏡的遠(yuǎn)心度并獲得更高的測量精度。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】上海微電子裝備有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】201203上海市張江高科技園區(qū)張東路1525號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】浦東新區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610029273.4 【申請日】2006-07-21 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1888981A 【公開公告日】2007-01-03 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100526990C 【授權(quán)公告日】2009-08-12 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類號】G03F7/20 【發(fā)明人】楊之文 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種光刻投影物鏡遠(yuǎn)心測量方法,其特征在于: 利用一可起到孔徑光闌作用的專用遠(yuǎn)心掩模,并在該遠(yuǎn)心掩模上設(shè)置 至少一個(gè)用以測量視場內(nèi)遠(yuǎn)心的通光孔,通過在不同的成像位置測量物體 的像來確定通過該點(diǎn)的主光線,從而計(jì)算獲得遠(yuǎn)心; 所述的測量方法包括:可獲得更高精度的傳感器掃描測量法、可快速 測量遠(yuǎn)心的曝光測量法。 【當(dāng)前權(quán)利人】上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市浦東新區(qū)張東路1525號 【專利權(quán)人類型】有限責(zé)任公司 【統(tǒng)一社會信用代碼】91310000736664790J 【被引證次數(shù)】2 【被自引次數(shù)】2.0 【家族引證次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】2

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    【摘要】薄形產(chǎn)品,省略其它視圖。【專利類型】外觀設(shè)計(jì)【申請人】李嘉峰【申請人類型】個(gè)人【申請人地址】200080上海市四平路311號恒城花苑乙座303室【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】虹口區(qū)【申請?zhí)枴緾N20063003

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    【專利類型】外觀設(shè)計(jì)【申請人】上海家化聯(lián)合股份有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】200082上海市保定路527號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】虹口區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630037044.8【申請日】2006-0

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