【摘要】本發(fā)明提供一種對準(zhǔn)標(biāo)記及其制造方法,主要用 于光刻裝置的掩模和晶片對準(zhǔn);該對準(zhǔn)標(biāo)記包括第一部分結(jié)構(gòu) 和第二部分結(jié)構(gòu),其中,第二部分結(jié)構(gòu)包括第一光柵和第二光 柵。該第一光柵的周期和第二光柵的周期互不相同且分別分布 在第一部分結(jié)構(gòu)兩側(cè)。
【專利類型】外觀設(shè)計 【申請人】上海家化聯(lián)合股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】200082上海市保定路527號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】虹口區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630036512.X 【申請日】2006-05-19 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3670498D 【公開公告日】2007-07-18 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN3670498D 【授權(quán)公告日】2007-07-18 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】曹軍 【主權(quán)項內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】上海家化聯(lián)合股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市保定路527號 【專利權(quán)人類型】其他股份有限公司(上市) 【統(tǒng)一社會信用代碼】913100006073349399
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