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熱蒸發(fā)法合成小直徑單晶SiC納米絲有序陣列的方法

時間:2026-04-06    作者:admin 點擊: ( 1 ) 次

【摘要】 一種熱蒸發(fā)法合成小直徑單晶SiC納米絲有序陣列的方法,屬于納米材料技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明采用硅片作為反應(yīng)襯底和硅源,以固態(tài)碳材料為前驅(qū)體,以ZnS粉末為輔助劑,以惰性氣體氬氣為保護氣體及載氣,進行氧化還原反應(yīng),從而在硅片上成核并生長成大量小直徑單晶有序排列的SiC納米絲陣列。本發(fā)明工藝簡單易行,成本低廉,對環(huán)境無污染,采用惰性氣體保護,無明顯易燃危險原料,氣體價格低廉;收率高,可以連續(xù)化操作。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】上海交通大學 【申請人類型】學校 【申請人地址】200240上海市閔行區(qū)東川路800號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610148218.7 【申請日】2006-12-28 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101003912A 【公開公告日】2007-07-25 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100415952C 【授權(quán)公告日】2008-09-03 【授權(quán)公告年份】2008.0 【IPC分類號】C30B29/36; C30B29/62; C30B25/00; C01B31/36; C30B29/10; C01B31/00; C30B29/00 【發(fā)明人】??〗? 王健農(nóng) 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種熱蒸發(fā)法合成小直徑單晶SiC納米絲有序陣列的方法,其特征在于, 采用硅片作為反應(yīng)襯底和硅源,以固態(tài)碳材料為前驅(qū)體,以ZnS粉末為輔助劑, 以惰性氣體氬氣為保護氣體及載氣,進行氧化還原反應(yīng),從而在硅片上成核并生 長成大量小直徑單晶有序排列的SiC納米絲陣列。 【當前權(quán)利人】上海交通大學 【當前專利權(quán)人地址】上海市閔行區(qū)東川路800號 【統(tǒng)一社會信用代碼】1210000042500615X0 【被引證次數(shù)】4 【被他引次數(shù)】4.0 【家族引證次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】4

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    【專利類型】外觀設(shè)計【申請人】東華大學; 上海海林實業(yè)有限公司【申請人類型】企業(yè),學?!旧暾埲说刂贰?00051上海市延安西路1882號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】長寧區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630042071.4【申

    發(fā)布時間:2026-04-06

    【摘要】請求保護的外觀設(shè)計包含色彩?!緦@愋汀客庥^設(shè)計【申請人】顧健【申請人類型】個人【申請人地址】201101上海市閔行區(qū)漕寶路3158弄4號802室【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】閔行區(qū)【申請?zhí)枴緾N2006300

    發(fā)布時間:2026-04-06

    【摘要】1.請求保護的外觀設(shè)計包含有色彩。 2.本外觀設(shè)計產(chǎn)品為平面產(chǎn)品,省略其他視圖。 3.單元圖案四方連續(xù),無限定邊界?!緦@愋汀客庥^設(shè)計【申請人】上海題橋紡織染紗有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】201114上海市閔行區(qū)浦江鎮(zhèn)

    發(fā)布時間:2026-04-06

    【摘要】本實用新型涉及一種用于噴水織機的新型帶傳 吸水風機。包括外殼、機架、風葉輪、轉(zhuǎn)軸、殼蓋,其特征在 于:在轉(zhuǎn)軸上設(shè)有帶輪,帶輪的兩側(cè)分別有軸承和棘輪連接在 轉(zhuǎn)軸上;在外殼上的進出風口上設(shè)有弧面風板;在位于外殼及 殼蓋之間的風葉輪的轉(zhuǎn)盤

    發(fā)布時間:2026-04-06

    【專利類型】外觀設(shè)計【申請人】上海廣為電器工具廠【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】200241上海市閔行區(qū)虹梅南路4999號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】閔行區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630039562.3【申請日】2006

    發(fā)布時間:2026-04-06

    【摘要】本外觀設(shè)計產(chǎn)品的設(shè)計要點在主視圖、后視圖中,左、右、俯、仰視圖無 設(shè)計要點,省略左、右、俯、仰視圖。【專利類型】外觀設(shè)計【申請人】衣戀時裝(上海)有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】200241上海市閔行區(qū)龍吳路5888號【申請

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