【摘要】一種能響應(yīng)可見光的光催化劑的制備方法，用于 半導(dǎo)體光催化技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明所述的光催化劑化學(xué)式為 BixM2－ xV2O8的化合物，M＝Y(jié)、La、Ce、Pr、Nd、Sm 中的一種，0＜x＜2，(Bi+M)∶V∶O的原子比為1∶1∶4，
【摘要】 一種AlN/SiO2納 米多層硬質(zhì)薄膜，屬于陶瓷薄膜領(lǐng)域。本發(fā)明由AlN層和 SiO2層交替沉積在金屬或陶瓷 基底上形成，AlN層的厚度為3～6nm， SiO2層厚為0.4～1.2nm。本發(fā)明 AlN/SiO2納米多層硬質(zhì)薄膜具 有SiO2被晶化并與AlN形成共 格外延生長的超晶格柱狀晶的結(jié)構(gòu)特征。本發(fā)明的 AlN/SiO2納米多層硬質(zhì)薄膜不 但具有優(yōu)良的高溫抗氧化性，而且具有較高的硬度；其硬度高 于28GPa。最高硬度可達(dá)32GPa。本發(fā)明作為高速切削刀具及 其它在高溫條件下服役耐磨工件的涂層，具有很高的應(yīng)用價(jià) 值。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】上海交通大學(xué) 【申請人類型】學(xué)校 【申請人地址】200240上海市閔行區(qū)東川路800號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610029135.6 【申請日】2006-07-20 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1887815A 【公開公告日】2007-01-03 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100381402C 【授權(quán)公告日】2008-04-16 【授權(quán)公告年份】2008.0 【IPC分類號】C04B41/89; C23C16/34; C23C16/40 【發(fā)明人】李戈揚(yáng); 趙文濟(jì); 孔明; 戴嘉維 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種AlN/SiO2納米多層硬質(zhì)薄膜，其特征在于，SiO2層(1)和AlN層(2) 形成在金屬或陶瓷基體(3)上，SiO2層(1)的厚度為0.4～1.2nm，AlN層(2)的 厚度為3～6nm，AlN/SiO2納米多層硬質(zhì)薄膜的總厚度為2-4μm。 【當(dāng)前權(quán)利人】上海交通大學(xué) 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市閔行區(qū)東川路800號 【統(tǒng)一社會信用代碼】1210000042500615X0 【引證次數(shù)】5.0 【被引證次數(shù)】8 【他引次數(shù)】5.0 【被自引次數(shù)】2.0 【被他引次數(shù)】6.0 【家族引證次數(shù)】7.0 【家族被引證次數(shù)】8
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