【摘要】本發(fā)明屬于薄膜沉積設備,是真空電弧離子鍍膜 機的核心部件。采用電磁線圈磁場控制電弧弧斑在 陰極表面上的運動軌跡和速度,顯著減少了蒸發(fā)源發(fā) 射的金屬液滴,提高了鍍膜質量。蒸發(fā)源在200A以 上的大電弧電流和與之相匹配的磁場下工作時,電
【專利類型】外觀設計 【申請人】合宇實業(yè)股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】臺灣省 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N91300845.1 【申請日】1991-04-13 【申請年份】1991 【公開公告號】CN3010985S 【公開公告日】1991-10-16 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN3010985S 【授權公告日】1991-10-16 【授權公告年份】1991.0 【發(fā)明人】陳立昌 【主權項內(nèi)容】無 【當前權利人】合宇實業(yè)股份有限公司 【當前專利權人地址】臺灣省
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