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一種生長在藍寶石襯底上的復合緩沖層及制備方法

時間:2026-04-05    作者:admin 點擊: ( 2 ) 次

【摘要】 本發(fā)明公開了一種生長在 Al2O3襯底上的復合緩沖層及制備方法,該復合緩沖層包括:依 次排列生成的AlN層、GaN層、InN : Mn層及InN過渡層。制 備方法采用MBE生長方式,首先采用高溫氮化技術在 Al2O3表面形成AlN層;再分三步進行GaN層生長;進一步在 GaN層上,生長InN : Mn層;再生長InN過渡層。 由于Mn的擴散系數(shù)較大,在InN薄膜生長時摻入少量的Mn 原子可以起到活性劑作用,有利于InN的成核和InN成核島之 間的融合,使得InN : Mn在GaN層上很快由三維變?yōu)槎S生長。 為防止Mn的擴散對于后續(xù)InN單晶薄膜的物理性質的影響, 在生長好InN : Mn層后,再生長InN過渡層。最后,在AlN- GaN-InN : Mn-InN復合緩沖層的基礎上就可生長高質量的 InN單晶薄膜。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學院上海技術物理研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】200083上海市玉田路500號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】虹口區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610117009.6 【申請日】2006-10-11 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1945863A 【公開公告日】2007-04-11 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100407465C 【授權公告日】2008-07-30 【授權公告年份】2008.0 【IPC分類號】H01L33/00; H01L31/0304; H01L29/20; H01L21/20; H01L33/12 【發(fā)明人】陳平平; 陸衛(wèi); 劉昭麟; 李天信; 王少偉; 陳效雙 【主權項內(nèi)容】1.一種生長在Al2O3襯底(1)上的復合緩沖層,其特征在于:該復合緩沖 層包括:依次排列生成的AlN層(2)、GaN層(3)、InN : Mn層(4)及InN過渡 層(5)。 (來源 馬克數(shù)據(jù)網(wǎng)) 【當前權利人】中國科學院上海技術物理研究所 【當前專利權人地址】上海市玉田路500號 【統(tǒng)一社會信用代碼】12100000425005579K 【被引證次數(shù)】12 【被自引次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】11.0 【家族引證次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】12

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