【摘要】本發(fā)明利用電磁場約束電感耦合等離子體濺射 沉積法，以Co為磁性摻雜源，以Al為施主摻雜源制備(Co， Al)共摻雜的ZnO薄膜。制備過程采用Zn1－x － yCoxAlyO(0＜x≤0.15，0＜y≤0.03)靶材，Co的 摻雜濃度
【摘要】 1.請求保護的外觀設計包含有色彩。 2.本外觀設計產(chǎn)品為平面產(chǎn)品，省略其他視圖。 3.單元圖案四方連續(xù)，無限定邊界。 【專利類型】外觀設計 【申請人】上海題橋紡織染紗有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】201114上海市閔行區(qū)浦江鎮(zhèn)立躍路519號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630038848.X 【申請日】2006-07-12 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3650628D 【公開公告日】2007-05-30 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3650628D 【授權公告日】2007-05-30 【授權公告年份】2007.0 【發(fā)明人】董勤霞; 潘玉明; 彭繼芝 【主權項內(nèi)容】無 【當前權利人】上海題橋紡織染紗有限公司 【當前專利權人地址】上海市閔行區(qū)浦江鎮(zhèn)立躍路519號 【專利權人類型】有限責任公司(自然人投資或控股) 【統(tǒng)一社會信用代碼】913101126320066543
未經(jīng)允許不得轉載：http://www.duba2008.cn/1775457660.html
喜歡就贊一下
