【摘要】一種高度c軸取向的納米多孔氧化鋅薄膜及其制 備方法,屬于半導體光電材料、納米能源材料、催化材料領域。 薄膜沉積過程由若干個循環(huán)組成,每個循環(huán)包含四步:(1)前驅(qū) 體溶液吸附;(2)襯底靜置;(3)襯底超聲輻照;(4)熱水反應及 襯底
【專利類型】外觀設計 【申請人】上海麗琴文化用品有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】201109上海市閔行區(qū)放鶴路2438號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630038441.7 【申請日】2006-06-30 【申請年份】2006 【公開公告號】CN300686409D 【公開公告日】2007-09-05 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN300686409D 【授權公告日】2007-09-05 【授權公告年份】2007.0 【發(fā)明人】蔡文榮 【主權項內(nèi)容】無 【當前權利人】上海麗琴文化用品有限公司 【當前專利權人地址】上海市閔行區(qū)放鶴路2438號 【專利權人類型】有限責任公司(外國自然人獨資) 【統(tǒng)一社會信用代碼】91310000607334752A
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