【摘要】本發(fā)明涉及一種光化學(xué)氣相淀積(光CVD)技 術(shù)。該技術(shù)采用紫外光汞敏化原理分解反應(yīng)氣體，在 低于200℃條件下，通過硅烷(SiH4)-笑氣(N2O)及硅 烷(SiH4)-氨氣(NH3)混合氣體的光化學(xué)反應(yīng)分別淀 積SiO2、SiN薄
【摘要】 本發(fā)明的方法屬于工業(yè)廢水處理技術(shù)領(lǐng)域，特別 適用于電鍍工廠鍍鉻廢水中鉻的回收。該方法主要 是在鍍鉻槽內(nèi)放置塑料網(wǎng)內(nèi)襯，在廢水中加入亞硫酸 使六價鉻還原成三價鉻，然后再加入氨水，與三價鉻 反應(yīng)生成含鉻沉淀，直到沉淀完全，最后進(jìn)行分離。 分離后的凈水封閉循環(huán)，重新用于漂洗，而分離后的 含鉻沉淀用水進(jìn)行多次清洗，除去銨離子及硫酸根離 子，得到鉻化合物純品，再重復(fù)用于鍍鉻工藝。本發(fā) 明的方法簡單可行地解決了鍍鉻廢水處理中鉻對環(huán) 境二次污染的問題，使之能在實際中推廣應(yīng)用。 （來自 馬克數(shù)據(jù)網(wǎng)） 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】侯相林 【申請人類型】個人 【申請人地址】香港九龍大角嘴鐵樹街7號金旺閣15樓D座 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】香港特別行政區(qū) 【申請?zhí)枴緾N90109324.6 【申請日】1990-11-24 【申請年份】1990 【公開公告號】CN1050709A 【公開公告日】1991-04-17 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN1023107C 【授權(quán)公告日】1993-12-15 【授權(quán)公告年份】1993.0 【IPC分類號】C02F1/62; C02F1/70; C01G37/00; C01G37/02 【發(fā)明人】侯相林 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種回收鍍鉻廢水中鉻的方法，該方法包括以下步驟： (1)在鍍鉻槽內(nèi)放置塑料網(wǎng)內(nèi)襯； (2)將亞硫酸加入鍍鉻廢水中，直到溶液顏色由橙黃色變成綠蘭色； (3)將氨水加入綠蘭色的廢水中，直到沉淀完全(PH約為6)； (4)用離心機(jī)將含鉻沉淀與母液分離； (5)將分離后的凈水進(jìn)行封閉循環(huán)，重復(fù)用于漂洗； (6)用水對分離后的含鉻沉淀進(jìn)行多次清洗，除去銨離子(NH4+1)及硫酸根離子(SO4-2)，得到鉻化合物純品，該鉻化合物純品可重復(fù)用于鍍鉻工藝。 【當(dāng)前權(quán)利人】侯相林 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】香港九龍大角嘴鐵樹街7號金旺閣15樓D座 【被引證次數(shù)】12.0 【被他引次數(shù)】12.0 【家族被引證次數(shù)】13.0
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