【摘要】一種高度c軸取向的納米多孔氧化鋅薄膜及其制 備方法,屬于半導(dǎo)體光電材料、納米能源材料、催化材料領(lǐng)域。 薄膜沉積過程由若干個循環(huán)組成,每個循環(huán)包含四步:(1)前驅(qū) 體溶液吸附;(2)襯底靜置;(3)襯底超聲輻照;(4)熱水反應(yīng)及 襯底
【摘要】 本外觀設(shè)計是紡織物圖案,省略后視圖。 單元圖案四方連續(xù),無限定邊界。 要求保護色彩。 【專利類型】外觀設(shè)計 【申請人】上海題橋紡織染紗有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】201114上海市閔行區(qū)浦江鎮(zhèn)立躍路519號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630318867.8 【申請日】2006-12-31 【申請年份】2006 【公開公告號】CN300723387D 【公開公告日】2007-12-26 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN300723387D 【授權(quán)公告日】2007-12-26 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】董勤霞; 潘玉明; 彭繼芝 【主權(quán)項內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】上海題橋紡織染紗有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市閔行區(qū)浦江鎮(zhèn)立躍路519號 【專利權(quán)人類型】有限責(zé)任公司(自然人投資或控股) 【統(tǒng)一社會信用代碼】913101126320066543
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